高性能电子光学系统
二次电子分辨率: 顶位二次电子探测器(2.0 nm at 1kV)*
高灵敏度: 高效PD-BSD, 超强的低加速电压性能,低至100 V成像
大束流(>200 nA): 便于高效微区分析
性能优异
压力可变: 具有优异的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配备高灵敏度低真空探测器(UVD)*
开仓室快速简单换样(最大样品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)
项目 |
内容 |
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分辨率 |
1.2 nm @ 30 kV |
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放大倍率 |
10 - 600,000× (底片倍率), 18 - 1,000,000× (800 × 600 像素) |
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电子光学系统 |
电子枪 |
ZrO /W 肖特基式电子枪 |
加速电压 |
0.5 - 30 kV (0.1 kV 步进) |
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着陆电压 |
减速模式: 0.1 - 2.0 kV *1 |
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最大束流 |
> 200 nA |
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探测器 |
低位二次电子探测器 |
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低真空模式*2 |
真空范围: 10 - 300 Pa |
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马达台 |
马达台控制 |
5 - 轴自动 (优中心) |
可动范围 |
X:0~100mm |
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最大样品尺寸 |
最大直径: 200 mm |
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选配探测器 |
· 高分辨率顶位二次电子探测器*1 · 高灵敏度低真空探测器 (UVD) · 5分割半导体探测器 (PD-BSD)*3 · 能谱仪 (EDS) · 波谱仪 (WDS) · 背散射电子衍射探测器 (EBSD) |